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一种平台装置，是具有移动于机床工作台的平面上的平台、及被载置于该平台上吸着平板状的工件之吸着盘、及将前述平台移动的线形马达之平台装置，其特征为，具备：从前述吸着盘的下面朝垂下方向延伸且配置于比前述平台的轮廓更外侧并直接支撑前述吸着盘的复数支柱、及设置于该各支柱的下端在前述机床工作台的平面上藉由空气压而可浮上地支撑前述支柱的第1空气衬垫。如申请专利范围第1项的平台装置，其中，在前述平台及前述吸着盘之间设置将前述吸着盘绕转用的载置台，该载置台的上面及前述吸着盘的下面之间藉由形成环状的板弹簧而结合在一起。如申请专利范围第1或2项的平台装置，其中，前述机床工作台，是由分割成沿着前述平台的移动方向之平行的2构件的机床工作台半体所构成，一对机床工作台半体是藉由同一的架台所支撑。如申请专利范围第3项的平台装置，其中，前述架台，是具有：将前述的一对机床工作台半体支撑于同一高度位置的复数梁、及使抵接于前述的一对机床工作台半体的外侧面且使前述的一对机床工作台半体的延伸方向保持平行地予以定位在安装位置上的定位构件、及支撑前述梁的复数脚部。如申请专利范围第1或2项的平台装置，其中，前述吸着盘，是具有四角形状的吸着面，并且前述吸着面的4边系形成比前述平台大，且比前述机床工作台小的尺寸。如申请专利范围第1或2项的平台装置，其中，前述平台，是具有：突出于前述机床工作台的平面上并沿着延伸于前述移动方向的一对导引件平行移动的一对滑件、及在前述机床工作台的平面上藉由空气压而可浮上移动的第2空气衬垫。如申请专利范围第1或2项的平台装置，其中，前述平台，是具有：朝与前述机床工作台的延伸方向平行的Y方向移动的Y平台、及朝与前述Y方向垂直的X方向移动的X平台。 |
