| 主权项 |
一种破片分析装置，包含：一基座，具有一容置空间，且该基座之顶部具有一开口，连通该容置空间；一分析台，设置于该基座，具有一平台部用以承载破片；及至少一导引装置，连接该基座与该分析台，该导引装置具有一第一导引方向及一第二导引方向，且该导引装置导引该分析台沿该第一导引方向或沿该第二导引方向位移，使该分析台位于该容置空间内或者位于该开口上方。如请求项1所述之破片分析装置，其更包含一第一轮组件，设置于该基座之底部。如请求项1所述之破片分析装置，其中该分析台更包含一盖板部，设置于该平台部之侧边缘。如请求项1所述之破片分析装置，其中该分析台更包含至少二侧板部，设置于该平台部之侧边缘。如请求项4所述之破片分析装置，其中该二侧板部分别具有复数个定位标记，绘制于各该侧板部靠近该平台部之一表面。如请求项1所述之破片分析装置，其中该平台部具有复数个座标格线，绘制于该平台部之一表面。如请求项1所述之破片分析装置，其更包含一收集箱，设置于该容置空间中，且该收集箱具有靠近该开口之一收集口。如请求项7所述之破片分析装置，其中该基座之一侧面具有一窗口，用以供该收集箱通过。如请求项8所述之破片分析装置，其中包含一门组件，枢接于该窗口之边缘，用以开启或关闭该窗口。如请求项7所述之破片分析装置，其中该收集箱更包含一第二轮组件，设置于该收集箱之底部。如请求项1所述之破片分析装置，其中该导引装置包含：一第一导轨，设置于该基座，沿该第一导引方向延伸；一第二导轨，设置于该分析台；及一枢接元件，枢接该第一导轨及该第二导轨，使该分析台之该第二导轨沿该第一导引方向或沿该第二导引方向位移。如请求项11所述之破片分析装置，其中该枢接元件包含一连接件及二枢轴，其中该二枢轴系设置于该连接件之两端，且分别枢接于该第一导轨及该第二导轨。如请求项1所述之破片分析装置，其中该导引装置为一连杆组，该连杆组之一端连接于该基座，另一端连接于该分析台，使该分析台沿该第一导引方向或该第二导引方向位移而位于该容置空间内或者位于该开口上方。如请求项13所述之破片分析装置，其中该连杆组包含互相连接之一第一连杆及一第二连杆，该第一连杆连接于该分析台，而该第二连杆连接于该基座。如请求项14所述之破片分析装置，其中该连杆组更包括一可变长度之伸缩杆，连接该第一连杆及该第二连杆。如请求项1所述之破片分析装置，其中该分析台系可选择地以该平台部或该盖板部覆盖于该开口。如请求项1所述之破片分析装置，其中该第一导引方向实质上系垂直于该第二导引方向。 |
