| 主权项 |
一种基板处理系统，用以对于待处理基板，进行包含光微影制程的处理；其特征为包含：第1自动基板运送线，于对待处理基板个别进行处理的复数处理部之间，运送待处理基板；及第2自动基板运送线，在其与该第1自动基板运送线之间可传递待处理基板，且于进行该光微影制程之一连串处理的光微影处理部的各处理装置之间，运送待处理基板；又，该光微影处理部包含：光阻涂布处理装置，于待处理基板之表面上涂布光阻；曝光处理装置，对涂布于待处理基板之光阻进行曝光处理；曝光后之烘烤处理装置，将曝光处理后之光阻予以加热处理；及显影处理装置，将加热处理后之光阻予以显影处理；且该光阻涂布处理装置、该曝光后之烘烤处理装置及该显影处理装置三者，系以分别与该第2自动基板运送线之间可传递待处理基板方式而分离配置；又该曝光处理装置接邻配置于该曝光后之烘烤处理装置，俾经由该曝光后之烘烤处理装置，而与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。如申请专利范围第1项之基板处理系统，其中，该光阻涂布处理装置、该曝光后之烘烤处理装置及该显影处理装置分别具备个别之基板传递口，用以与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。一种基板处理系统，用以对于待处理基板，进行包含光微影制程的处理；其特征为包含：第1自动基板运送线，于对待处理基板个别进行处理的复数处理部之间，运送待处理基板；及第2自动基板运送线，在其与该第1自动基板运送线之间可传递待处理基板；且于进行该光微影制程之一连串处理的光微影处理部的各处理装置间，运送待处理基板；又，该光微影处理部包含：光阻涂布处理装置，于待处理基板之表面上涂布光阻；曝光处理装置，对涂布于待处理基板之光阻进行曝光处理；曝光后之烘烤处理装置，将曝光处理后之光阻予以加热处理；及显影处理装置，接邻配置于该曝光后之烘烤处理装置，将加热处理后之光阻予以显影处理；且该光阻涂布处理装置及该显影处理装置二者，系以可分别与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板方式而分离配置；又该曝光处理装置接邻配置于该曝光后之烘烤处理装置，俾经由该曝光后之烘烤处理装置及该显影处理装置二者，而与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。如申请专利范围第3项之基板处理系统，其中，该光阻涂布处理装置及该显影处理装置分别具备个别之基板传递口，用以与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。如申请专利范围第1至4项中任一项之基板处理系统，其中，该第2自动基板运送线系独立于该第1自动基板运送线的循环式基板运送线。如申请专利范围第1至4项中任一项之基板处理系统，更包含：第1自动基板运送装置，移动于该第1自动基板运送线，而与该各处理部间传递待处理基板；及第2自动基板运送装置，移动于该第2自动基板运送线，而与该光微影处理部之各处理装置间传递待处理基板。如申请专利范围第6项之基板处理系统，其中，该第1自动基板运送装置及该第2自动基板运送装置皆系容器运送装置，用以将复数之待处理基板收纳于容器而运送。如申请专利范围第6项之基板处理系统，其中，该第1自动基板运送装置系容器运送装置，将复数之待处理基板收纳于容器而运送；而该第2自动基板运送装置系单片运送装置，将待处理基板予以逐片运送。如申请专利范围第1至4项中任一项之基板处理系统，更包含：第1控制部，控制于该第1自动基板运送线上之待处理基板的运送；及第2控制部，控制于该第2自动基板运送线上之待处理基板的运送。如申请专利范围第1至4项中任一项之基板处理系统，其中，相对于该光阻涂布处理装置的设置数，该曝光处理装置采1：2比例的设置数而配置。如申请专利范围第1至4项中任一项之基板处理系统，其中，该光微影处理部系藉由双重曝光技术而进行图案制作的处理部。一种基板运送方法，在对于待处理基板进行包含光微影制程之处理的基板处理系统中，运送待处理基板；该基板处理系统包含：第1自动基板运送线，于对待处理基板个别进行处理的复数处理部之间，运送待处理基板；及第2自动基板运送线，呈循环式，与该第1自动基板运送线之间可传递待处理基板而构成，且专用于进行该光微影制程之一连串处理的光微影处理部；又，该光微影处理部包含：光阻涂布处理装置，于待处理基板之表面上涂布光阻；曝光处理装置，对涂布于待处理基板之光阻进行曝光处理；曝光后之烘烤处理装置，将曝光处理后之光阻予以加热处理；及显影处理装置，将加热处理后之光阻予以显影处理；于该光微影处理部中，藉由该第2自动基板运送线而于各处理装置间运送待处理基板；同时，该光阻涂布处理装置、该曝光后之烘烤处理装置及该显影处理装置三者，系分别与该第2自动基板运送线之间直接传递待处理基板；且该曝光处理装置系经由接邻配置的该曝光后之烘烤处理装置，而与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。一种基板运送方法，在对于待处理基板进行包含光微影制程之处理的基板处理系统中，运送待处理基板；该基板处理系统包含：第1自动基板运送线，于对待处理基板个别进行处理的复数处理部之间，运送待处理基板；及第2自动基板运送线，呈循环式，与该第1自动基板运送线之间可传递待处理基板而构成，且专用于进行该光微影制程之一连串处理的光微影处理部；又，该光微影处理部包含：光阻涂布处理装置，于待处理基板之表面上涂布光阻；曝光处理装置，对涂布于待处理基板之光阻进行曝光处理；曝光后之烘烤处理装置，将曝光处理后之光阻予以加热处理；及显影处理装置，将加热处理后之光阻予以显影处理；于该光微影处理部中，藉由该第2自动基板运送线而于各处理装置间运送待处理基板；同时，该光阻涂布处理装置及该显影处理装置二者，系分别与该第2自动基板运送线之间直接传递待处理基板；并且，该曝光处理装置经由接邻配置的该曝光后之烘烤处理装置及该显影处理装置，而与该第2自动基板运送线之间传递待处理基板。如申请专利范围第12或13项之基板运送方法，其中，该光微影处理部依各该处理装置的运转状态，对于从该第2自动基板运送线将待处理基板送入之送入目的地加以选择。如申请专利范围第12或13项之基板运送方法，其中，于该第1自动基板运送线及该第2自动基板运送线，将复数之待处理基板收纳于容器而运送；并且，于该第2自动基板运送线及该光微影处理部的各处理装置间，以收纳于该容器的状态传递待处理基板。如申请专利范围第12或13项之基板运送方法，其中，于该第1自动基板运送线，将复数之待处理基板收纳于容器而运送；于该第2自动基板运送线，则将待处理基板逐片运送；同时，于该第2自动基板运送线及该光微影处理部的各处理装置间，逐片传递待处理基板。一种电脑可读取之记忆媒体，其储存有在电脑上作动的控制程式；且于实行该控制程式时，可控制一基板处理系统，以进行申请专利范围第12项之基板运送方法。 |
