| 发明名称 | 光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂，在式(I)中R1，R2，R3和R4独立地表示氢原子等，X1至X8独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团；在式(II)中R11和R12独立地表示氢原子等，m表示1至4的整数，R13表示C1-C6烷基等，并且环Y1表示C3-C20饱和烃环；在式(B1)中Q1和Q2独立地表示氟原子等，Lb1表示C1-C17饱和二价烃基，在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y表示C1-C18脂族烃基等，并且Z+表示有机阳离子。 | ||
| 申请公布号 | CN102193313A | 申请公布日期 | 2011.09.21 |
| 申请号 | CN201110035785.2 | 申请日期 | 2011.02.01 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 安藤信雄;武元一树 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 吴小明 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：由式(I)表示的化合物和由式(B1)表示的酸生成剂：<img file="FSA00000432213900011.GIF" wi="1108" he="705" />其中R<sup>1</sup>，R<sup>2</sup>，R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>独立地表示氢原子，C1-C6烷基，C3-C10环烷基，C4-C20环烷基烷基，C6-C20芳基，C7-C20芳烷基或由-OX<sup>9</sup>表示的基团，并且所述烷基，所述芳基和所述芳烷基的一个或多个氢原子可以被由-OX<sup>10</sup>表示的基团代替，X<sup>1</sup>，X<sup>2</sup>，X<sup>3</sup>，X<sup>4</sup>，X<sup>5</sup>，X<sup>6</sup>，X<sup>7</sup>，X<sup>8</sup>，X<sup>9</sup>和X<sup>10</sup>独立地表示氢原子或由式(II)表示的基团：<img file="FSA00000432213900012.GIF" wi="1017" he="353" />其中R<sup>11</sup>和R<sup>12</sup>独立地表示氢原子或C1-C6烷基，m表示1至4的整数，R<sup>13</sup>表示C1-C6烷基或C3-C12饱和环状烃基，并且环Y<sup>1</sup>表示C3-C20饱和烃环，<img file="FSA00000432213900013.GIF" wi="675" he="275" />其中Q<sup>1</sup>和Q<sup>2</sup>独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L<sup>b1</sup>表示单键或C1-C17饱和二价烃基，在所述C1-C17饱和二价烃基中的一个或多个-CH<sub>2</sub>-可以被-O-或-CO-代替，Y表示C1-C18脂族烃基或C3-C18饱和环状烃基，并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基可以具有一个或多个取代基，并且所述脂族烃基和所述饱和环状烃基中的一个或多个-CH<sub>2</sub>-可以被-O-，-CO-或-SO<sub>2</sub>-代替，并且Z<sup>+</sup>表示有机阳离子。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||