发明名称 |
功率模块用基板及制法、自带散热器的该基板及功率模块 |
摘要 |
本发明提供一种功率模块用基板、功率模块用基板的制造方法、自带散热器的功率模块用基板及功率模块,该功率模块用基板在热循环负荷时,能抑制电路层表面产生起伏或褶皱,并且,能够抑制热应力作用于陶瓷基板和电路层的接合界面,另外,热循环可靠性优异。一种功率模块用基板(10),在陶瓷基板(11)的一面配设有铝制电路层(12),其中,电路层(12)具有主体层(12B)及配置成在所述一面侧暴露的表面硬化层(12A),电路层(12)的所述一面的压痕硬度(Hs)设定在50mgf/μm2以上200mgf/μm2以下的范围内,该压痕硬度(Hs)的80%以上的区域成为表面硬化层(12A),主体层(12B)的压痕硬度(Hb)不到所述压痕硬度Hs的80%。 |
申请公布号 |
CN102194765A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN201110045932.4 |
申请日期 |
2011.02.23 |
申请人 |
三菱综合材料株式会社 |
发明人 |
殿村宏史;长友义幸;长濑敏之;黑光祥郎 |
分类号 |
H01L23/14(2006.01)I;H01L23/373(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
陈万青;王珍仙 |
主权项 |
一种功率模块用基板,在陶瓷基板的一面配设有铝制电路层,并且在该电路层的一面上配设电子零件,其特征在于,所述电路层具有主体层及配置成在所述一面侧暴露的表面硬化层,所述电路层的所述一面的压痕硬度Hs设定在50mgf/μm2以上200mgf/μm2以下的范围内,所述电路层中,具有所述压痕硬度Hs的80%以上的压痕硬度的区域成为所述表面硬化层,所述表面硬化层含有选自Zr、Hf、Ta及Nb中的1种或2种以上的添加元素,所述主体层的压痕硬度Hb不到所述压痕硬度Hs的80%。 |
地址 |
日本东京 |