发明名称 |
滤光器及其制造方法、分析设备以及光设备 |
摘要 |
本发明涉及滤光器及其制造方法、分析设备以及光设备。本发明的滤光器具有对置的第1、第2基板、在第1、第2基板上设置的第1、第2反射膜、在第1、第2基板上设置的第1、第2接合膜、以及在第1、第2反射膜的表面形成的第1、第2阻隔膜,第1阻隔膜的臭氧或紫外线的透射率比第1反射膜低,第2阻隔膜的臭氧或紫外线的透射率比第2反射膜低,在制造或实际使用滤光器时,保护反射膜免受臭氧或紫外线的影响,不会使滤光器特性变差。 |
申请公布号 |
CN102193183A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN201110049729.4 |
申请日期 |
2011.02.28 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
山崎成二 |
分类号 |
G02B26/00(2006.01)I;G01J3/46(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
苗堃;赵曦 |
主权项 |
一种滤光器的制造方法,其特征在于,具有如下工序:在第1基板上形成第1接合膜的工序,所述第1基板形成有反射光并能透射特定波长的光的第1反射膜,在第2基板上形成第2接合膜的工序,所述第2基板形成有反射光并能透射特定波长的光的第2反射膜,形成第1阻隔膜的工序,所述第1阻隔膜覆盖所述第1基板的所述第1反射膜的表面而保护所述第1反射膜,形成第2阻隔膜的工序,所述第2阻隔膜覆盖所述第2基板的所述第2反射膜的表面而保护所述第2反射膜,利用臭氧或紫外线对所述第1、第2接合膜分别赋予活化能的工序,以及接合已活化的所述第1、第2接合膜而将所述第1、第2基板黏在一起的工序,所述第1阻隔膜在对所述第1接合膜赋予活化能之前形成,所述第2阻隔膜在对所述第2接合膜赋予活化能之前形成。 |
地址 |
日本东京都 |