发明名称 |
干涉系统的测量方法 |
摘要 |
本发明有关于一种干涉系统的测量方法用以于干涉系统对待测物进行垂直扫描,并在多个扫描高度依序分别产生多张干涉影像后,利用这些干涉影像产生二维形貌图像,该方法包括以下步骤:对各干涉影像中的每一个像素点取样,以得到干涉影像中的干涉区域面积,并利用干涉影像所对应的扫描高度与干涉区域面积建立高度-干涉面积对应比信息;在这些干涉影像所对应的干涉区域面积中撷取相对峰值,并将相对峰值所对应的扫描高度定义为特征高度;以及撷取特征高度与上下各一第一预定张数的干涉影像进行叠加,以产生不含有干涉现象的待测物的二维形貌图像。 |
申请公布号 |
CN102192704A |
申请公布日期 |
2011.09.21 |
申请号 |
CN201010134521.8 |
申请日期 |
2010.03.16 |
申请人 |
致茂电子(苏州)有限公司 |
发明人 |
张维哲;廖界程 |
分类号 |
G01B9/02(2006.01)I;G01B11/30(2006.01)I |
主分类号 |
G01B9/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
梁挥;祁建国 |
主权项 |
一种干涉系统的测量方法,用以于一干涉系统沿一垂直扫描路径对一待测物进行一垂直扫描,并在该垂直扫描路径的多个扫描高度依序分别产生多张干涉影像后,藉以利用这些干涉影像以产生一二维形貌图像,其特征在于,该方法包括以下步骤:(a)对各干涉影像中的每一个像素点取样,以得到该干涉影像的一干涉区域面积,并利用该干涉影像所对应的该扫描高度与该干涉区域面积建立一高度‑干涉面积对应比信息;(b)利用该高度‑干涉面积对应比信息,在这些干涉影像所对应的这些干涉区域面积中撷取一相对峰值,藉以撷取该相对峰值所对应的该扫描高度,并将其定义为一特征高度;以及(c)撷取该特征高度与邻近该特征高度上下各一第一预定张数的干涉影像进行一数值处理,以产生该二维形貌图像。 |
地址 |
215011 江苏省苏州高新区竹园路9-1号狮山工业园六号厂房 |