发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Graphennanostruktur
摘要 Verfahren zur Herstellung einer Graphennanostruktur, welches die folgenden Schritte umfasst: Ausbilden einer Oxidnanostruktur auf einer Graphenschicht, Ausrichten der Oxidnanostruktur auf der Graphenschicht in eine vorbestimmte Richtung, Durchführen eines anisotropen Ätzens unter Verwendung der ausgerichteten Oxidnanostruktur als eine Maske, und Entfernen der nach dem anisotropen Ätzen verbleibenden Oxidnanostruktur.
申请公布号 DE102008060644(B4) 申请公布日期 2011.09.15
申请号 DE200810060644 申请日期 2008.12.05
申请人 SNU R&DB FOUNDATION 发明人 HONG, SEUNGHUN;LEE, JOOHYUNG;KIM, TAE HYUN
分类号 B82B3/00;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/3213 主分类号 B82B3/00
代理机构 代理人
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