发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Graphennanostruktur |
摘要 |
Verfahren zur Herstellung einer Graphennanostruktur, welches die folgenden Schritte umfasst: Ausbilden einer Oxidnanostruktur auf einer Graphenschicht, Ausrichten der Oxidnanostruktur auf der Graphenschicht in eine vorbestimmte Richtung, Durchführen eines anisotropen Ätzens unter Verwendung der ausgerichteten Oxidnanostruktur als eine Maske, und Entfernen der nach dem anisotropen Ätzen verbleibenden Oxidnanostruktur.
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申请公布号 |
DE102008060644(B4) |
申请公布日期 |
2011.09.15 |
申请号 |
DE200810060644 |
申请日期 |
2008.12.05 |
申请人 |
SNU R&DB FOUNDATION |
发明人 |
HONG, SEUNGHUN;LEE, JOOHYUNG;KIM, TAE HYUN |
分类号 |
B82B3/00;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/3213 |
主分类号 |
B82B3/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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