发明名称 Verfahren zur Bearbeitung einer Halbleiterscheibe
摘要 Verfahren zur Bearbeitung einer Halbleiterscheibe (11), umfassend a) Bereitstellen einer mittels einer Drahtsäge von einem Kristall aus Halbleitermaterial abgetrennten Scheibe (11), die eine Lasermarkierung (7) und eine Sägeunterlage (12) in ihrem Umfangsbereich aufweist, wobei die Sägeunterlage eine Einkerbung (13) umfasst, die die Kristallorientierung der Scheibe (11) angibt; b) Fixieren der Scheibe (11) auf einem Scheibenhalter (43), der in Rotation versetzt werden kann; c) Mechanische Bearbeitung der auf dem rotierenden Scheibenhalter (43) befindlichen Scheibe (11), beinhaltend Entfernen der Sägeunterlage (12) und Verrundung der Kante der Scheibe (11) durch Zustellung rotierender Schleifscheiben (21, 22) in einem Arbeitschritt; d) Erneudie die Kristallorientierung der Scheibe (11) angibt.
申请公布号 DE102010010886(A1) 申请公布日期 2011.09.15
申请号 DE201010010886 申请日期 2010.03.10
申请人 SILTRONIC AG 发明人 EHRENSCHWENDTNER, SIMON
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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