发明名称 |
一种半导体纳米晶/量子点在晶硅材料上的沉积生长方法 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体纳米晶/量子点在晶硅材料上的沉积生长方法,由下列重量比物质组成:硫、硒、硫化物或硒化物1-100份;金属盐1-100份;溶剂100-500份;偶联剂1-10份;晶硅材料:硅片。以晶硅材料为基质,预先合成胶体量子点,加入偶联分子,结合旋涂、滴涂法以及浸渍提拉技术将胶体量子点连接到晶硅材料上。本发明产品物理化学性质非常稳定,长期暴露在空气中不会影响其光电转换效率。制备工艺简单易操作,容易工业应用,原料来源丰富,且价廉易得。 |
申请公布号 |
CN102184979A |
申请公布日期 |
2011.09.14 |
申请号 |
CN201110047486.0 |
申请日期 |
2011.02.28 |
申请人 |
上海师范大学 |
发明人 |
余锡宾;王飞久;杜梦娟;张坤;浦旭鑫 |
分类号 |
H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I;H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0352(2006.01)I |
代理机构 |
上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 |
代理人 |
张美娟 |
主权项 |
一种量子点的硅晶材料,其特征在于:由下列重量比物质组成:硫、硒、硫化物或硒化物 1‑100份;金属盐 1‑100份;溶剂 100‑500份;偶联剂 1‑10份;晶硅材料:硅片(硅电池片)。 |
地址 |
200234 上海市徐汇区桂林路100号 |