晶体硅臭氧清洗装置

摘要

一种晶体硅臭氧清洗装置，包括滚轮、臭氧发生器、桶槽，其特征在于，所述的桶槽下部设有臭氧发生器，桶槽上部设有双层滚轮，所述的双层滚轮，上面一层滚轮，下面对应有一层滚轮。本实用新型利用臭氧的强氧化作用将硅片表面的污染物氧化后随去离子水的冲洗而被去除，且在水中可短时间内自行分解，没有二次污染，其副产物无毒，基本无二次污染，有着许多别的氧化剂无法比拟的优点，同时由于其独特的滚轮设计可以实现硅片的自动化生产，节约人力。

主权项

一种晶体硅臭氧清洗装置，包括滚轮、臭氧发生器、桶槽，其特征在于，所述的桶槽下部设有臭氧发生器，桶槽上部设有双层滚轮，所述的双层滚轮，上面一层滚轮，下面对应有一层滚轮。