发明名称 |
一种氮化物LED结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种氮化物LED结构,其多量子阱有源层中的量子阱的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度梯度变化,从而使空穴载流子更加易于输运到靠近N型电子注入层的量子阱中,提高了载流子在有源区中分布的均匀性,进一步提高了器件的内量子效率和发光效率;同时,还公开了一种氮化物LED结构的制备方法,通过梯度改变多量子阱有源层中的量子阱的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度,使得靠近P型空穴注入层的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度大,靠近N型电子注入层的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度小,从而使空穴载流子更加易于输运到靠近N型电子注入层的量子阱中,提高了载流子在有源区中分布的均匀性,进一步提高了器件的内量子效率和发光效率。 |
申请公布号 |
CN102185060A |
申请公布日期 |
2011.09.14 |
申请号 |
CN201110095027.X |
申请日期 |
2011.04.15 |
申请人 |
映瑞光电科技(上海)有限公司 |
发明人 |
于洪波 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种氮化物LED结构,至少包括N型电子注入层、P型空穴注入层以及夹在所述N型电子注入层与所述P型空穴注入层之间的多量子阱有源层,其特征在于,所述多量子阱有源层中的量子阱的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度梯度变化,靠近P型空穴注入层的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度大,靠近N型电子注入层的势垒宽度和/或势垒的禁带宽度小。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区上海市临港产业区新元南路555号金融中心211室 |