光掩膜的检查装置、检查方法、制造方法和图案转印方法

摘要

本发明的光掩膜的检查装置中，保持光掩膜(3)，将来自光源(1)的规定波长的光束介由照明光学系统(2)照射到光掩膜(3)，并介由物镜系统(4)且由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。从光源(1)发出的光束至少包含g线、h线或i线之一，或者包含它们任意二者以上混合后的光束，介由波长选择滤波器(6)而照射到光掩膜(3)上。

主权项

一种光掩膜的检查装置，具备：保持作为被检体的光掩膜的掩膜保持部件；至少发出g线、h线及i线的光束的光源；照明光学系统，向由上述掩膜保持部件保持的光掩膜照射上述光束；物镜系统，入射照射到上述光掩膜且经过该光掩膜的上述光束；摄像部件，接收经过上述物镜系统的上述光束，对上述光掩膜的像进行摄像；和波长选择滤波器，对照射到上述光掩模的光束进行波长条件变更的波长选择滤波器，并且，上述光掩膜的检查装置进一步具备运算部件，根据在上述波长条件变更后所摄像的上述光掩模的像的光强度数据，算出在g线、h线和i线以规定强度比混合后的光束照射到上述光掩膜时所得到的光强度数据。