| 主权项 |
一种于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之方法，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该方法包括：令该基材与一组成物接触，其中该组成物包括(a)一种烷基环状醇，(b)一种唑类衍生物，及(c)金属离子，选自锌(II)离子、铜(II)离子、镍(II)离子、钴(II)离子、铁(II)离子、及其组合。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇具有至少110℃之高沸点。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇具有如结构式(I)所示的五员环：@sIMGTIF!d10012.TIF@eIMG!其中R1、R2、R3、R4、和R5是碳、氮、氧、或硫；R1、R2、R3、R4、和R5中至少4个是碳；R11是具有1、2或3个碳的烃基；及R22、R33、R44、和R55是氢或具有1、2或3个碳的烃基。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇系四氢糠醇或糠醇。如申请专利范围第1项之方法，其中该唑类衍生物系如结构式(II)所示：@sIMGTIF!d10013.TIF@eIMG!其中A1、A2、A3、A4、和A5是碳或氮；该5-员环中的氮原子数是1、2、或3；该由A1、A2、A3、A4、和A5所定义的5-员环是芳族的；及A11、A22、A33、A44、和A55系各自独立地选自电子对、氢、卤基、硝基、氰基、经取代或未经取代的烃基、经取代或未经取代的烷氧基、及经取代或未经取代的胺基。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇的起始浓度是0.5 mL/L至100 mL/L。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇的起始浓度是0.5 mL/L至100 mL/L，及该唑类衍生物的起始浓度是0.1 g/L至20 g/L。如申请专利范围第1项之方法，其中该烷基环状醇的起始浓度是5 mL/L至25 mL/L，及该唑类衍生物的起始浓度是0.5 g/L至10 g/L。如申请专利范围第1项之方法，其中该组成物是不含二元醇的。如申请专利范围第1项之方法，其中该金属离子是锌(II)离子。如申请专利范围第1项之方法，其中该金属离子是铜(II)离子。如申请专利范围第1项之方法，其中该金属离子是镍(II)离子。如申请专利范围第1项之方法，其中该金属离子是钴(II)离子。如申请专利范围第1项之方法，其中该金属离子是铁(II)离子。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物基本上系由下列所组成：(1)一种烷基环状醇，而其浓度为0.5 mL/L至100 mL/L；(2)一种唑类衍生物；(3)锌(II)离子；及(4)水。如申请专利范围第15项之组成物，其中该烷基环状醇具有至少110℃之高沸点。如申请专利范围第15项之组成物，其中该烷基环状醇具有如结构式(I)所示的五员环：@sIMGTIF!d10014.TIF@eIMG!其中R1、R2、R3、R4、和R5是碳、氮、氧、或硫；R1、R2、R3、R4、和R5中至少4个是碳；R11是具有1、2或3个碳的烃基；及R22、R33、R44、和R55是氢或具有1、2或3个碳的烃基。如申请专利范围第15项之组成物，其中该烷基环状醇系四氢糠醇或糠醇。如申请专利范围第15项之组成物，其中该唑类衍生物系如结构式(II)所示：@sIMGTIF!d10015.TIF@eIMG!其中A1、A2、A3、A4、和A5是碳或氮；该5-员环中的氮原子数是1、2、或3；该由A1、A2、A3、A4、和A5所定义的5-员环是芳族的；及A11、A22、A33、A44、和A55系各自独立地选自电子对、氢、卤基、硝基、氰基、经取代或未经取代的烃基、经取代或未经取代的烷氧基、及经取代或未经取代的胺基。如申请专利范围第15项之组成物，其中该组成物是不含二元醇的。一种于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之方法，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该方法包括：令该具有铜表面的基材与一组成物接触，其中该组成物包括(a)一种沸点至少150℃之不含二元醇的单元醇，(b)一种唑类衍生物，及(c)金属离子，选自锌(II)离子、铜(II)离子、镍(II)离子、钴(II)离子、铁(II)离子、及其组合。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种沸点至少150℃之不含二元醇的单元醇；(2)一种唑类衍生物；(3)金属离子，选自锌(II)离子、铜(II)离子、镍(II)离子、钴(II)离子、铁(II)离子、及其组合；及(4)一种羧酸，选自甲酸、乙酸、及其组合。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物基本上系由下列所组成：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；(3)锌(II)离子；(4)水；及(5)一种错合剂，选自甘油、EDTA、乙二胺、及其组合。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；及(3)铜(II)离子。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；及(3)镍(II)离子。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；及(3)钴(II)离子。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；及(3)铁(II)离子。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇；(2)一种唑类衍生物；(3)锌(II)离子；(4)水；及(5)一种羧酸，选自甲酸、乙酸、及其组合。如申请专利范围第28项之组成物，其另外包含选自丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、及其组合之羧酸。一种适合于具有金属表面的基材上形成腐蚀保护膜之组成物，其中该金属表面是选自铜表面、金表面、及铜和金表面二者，该组成物包括：(1)一种烷基环状醇，而其浓度为0.5 mL/L至25 mL/L；(2)一种唑类衍生物；(3)锌(II)离子；及(4)水。如申请专利范围第30项之组成物，其另外包含选自甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、及其组合之羧酸。 |
