发明名称 洗净装置、镀膜料片的制造装置、洗净方法以及镀膜料片的制造方法
摘要 本发明提供了一种洗净装置,其在输送料片的同时洗净所述料片。所述洗净装置包括喷射部件,其中所述喷射部件将新鲜的洗净液体喷射在所述料片上;以及第一洗净槽,其中所述第一洗净槽安置在相对于所述喷射部件的所述料片的输送方向的上游侧。所述第一洗净槽洗净已经过所述第一洗净槽的所述料片,并且吸收通过所述喷射部件已经喷射在所述料片上的洗净液体。
申请公布号 CN101346496B 申请公布日期 2011.08.31
申请号 CN200780000899.5 申请日期 2007.03.20
申请人 富士胶片株式会社 发明人 斋藤浩一
分类号 C25D17/00(2006.01)I;B08B11/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;C25D7/06(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;C25D21/08(2006.01)I 主分类号 C25D17/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 蔡胜利
主权项 一种洗净装置,其在输送料片的同时洗净所述料片,所述洗净装置包括:喷射部件,其中所述喷射部件将新鲜的洗净液体喷射在所述料片上;以及第一洗净槽,其中所述第一洗净槽安置在相对于所述喷射部件的所述料片的输送方向的上游侧,所述第一洗净槽洗净经过其的所述料片,并且吸收已经通过所述喷射部件被喷射在所述料片上的所述洗净液体,一对液体排出辊,其中所述液体排出辊在相对于所述喷射部件的所述料片的输送方向下游侧夹紧所述料片,其中,所述喷射部件的一部分将所述洗净液体喷射在所述液体排出辊上。
地址 日本东京