发明名称 |
射频金属-氧化物-半导体场效应晶体管 |
摘要 |
本发明提供了射频MOS管,以提高射频MOS管的工作速度及降低其射频MOS管栅极寄生电阻导致的噪声恶化以及可靠性;该射频MOS管包括:源极、漏极和栅极,衬底,所述栅极由子栅和连接子栅的侧栅构成,还包括连接源极及源端的源金属层、连接漏极及漏端的漏金属层和连接侧栅及栅输入端的侧栅金属层,其中源金属层覆盖并延伸出源极,其在有源区的投影与漏极和子栅无交叠;漏金属层覆盖并延伸出漏极,其在有源区的投影与源极和子栅无交叠;侧栅金属层覆盖并延伸出侧栅,其在有源区的投影与源极和漏极无交叠;以及源金属层、漏金属层及栅金属层中,由相同层金属形成的部分无交叉。 |
申请公布号 |
CN102169895A |
申请公布日期 |
2011.08.31 |
申请号 |
CN201010113496.5 |
申请日期 |
2010.02.25 |
申请人 |
上海北京大学微电子研究院 |
发明人 |
廖英豪;傅春晓;程玉华 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种射频金属氧化物半导体场效应晶体管,包括源极、漏极、栅极和衬底,所述栅极由子栅和连接子栅的侧栅构成,其特征在于,还包括连接源极及源端的源金属层、连接漏极及漏端的漏金属层和连接侧栅及栅输入端的侧栅金属层,其中源金属层覆盖并延伸出源极,其在有源区的投影与漏极和子栅无交叠;漏金属层覆盖并延伸出漏极,其在有源区的投影与源极和子栅无交叠;侧栅金属层覆盖并延伸出侧栅,其在有源区的投影与源极和漏极无交叠;以及源金属层、漏金属层及栅金属层中,由相同层金属形成的部分无交叉。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区盛夏路608号 |