发明名称 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线
摘要 大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线,它包括在机座横向方向上布设数个依次相邻、且与抽气系统连通的由预抽室等组成的真空室组区以及紧邻的进片区、出片区,进片区由进片平移架等组成,出片区由出片平移架等组成,于真空室组区、进片区和出片区上设置磁导向传送装置并与适配的工件回行架组成沿装载架镀膜运行方向和装载架回行运行方向连续循环运行的生产环路,实现基片的大面积抗反射导电膜的连续磁控溅射镀膜的技术方案,它克服了传统透明导电膜生产线,透过率范围不高,无传送室,基片装载架的传送速度转换比小,生产效率较低等缺陷。它适合用于各类显示面板、太阳能面板和装饰面板的透明导电膜、抗反射膜、高反射膜等大面积镀膜的生产。
申请公布号 CN101353782B 申请公布日期 2011.08.31
申请号 CN200810143143.2 申请日期 2008.09.05
申请人 郭爱云 发明人 郭爱云;朱选敏;孙桂红;祝海生
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 湘潭市雨湖区创汇知识产权代理事务所 43207 代理人 左祝安
主权项 一种大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线,其特征在于它包括在机座(1)横向方向上布设数个依次相邻、且与抽气系统连通的由预抽室(21)、前过渡室(22)、前传送室(23)、介质膜镀膜室Ⅰ(24a)、介质膜镀膜室Ⅱ(24b)、介质膜镀膜室Ⅲ(24c)、介质膜镀膜室Ⅳ(24d)、介质膜镀膜室Ⅴ(24e)、隔离传送室Ⅰ(25a)、隔离室(26)、隔离传送室Ⅱ(25b)、导电膜镀膜室(27)、后传送室(28)和后过渡室(29)组成的真空室组区(2)以及紧邻的进片区(3)、出片区(4),所述进片区(3)由进片平移架(31)、进片架(32)组成,所述出片区(4)由出片室(41)、出片架Ⅰ(4a)、出片架Ⅱ(4b)、出片平移架(42)组成,于所述真空室组区(2)、进片区(3)和出片区(4)上设置磁导向传送装置(5),该磁导向传送装置(5)包括设置在运行环路上的传动机组(51),该传动机组(51)经同步传送带(52)与动密封装置(53)上的同步轴(531)传动联接,连接于同步轴(531)端的同步传送轮(532),经固定座(54)、连接座(55)和连接销(56)固联于运行环路上的磁导向座(57)及设置在磁导向座(57)上的导向座磁铁(571)和经同步传送轮(532)带动且由导向座磁铁(571)导向运行的装载架(7);该装载架(7)包括一摩擦导杆(71)和经摩擦导杆(71)上的下绝缘块(72)连接的立式装载框(73),所述装载架(7)的上端设有上绝缘块(74)和适配于导向座磁铁(571)的工件架导向磁铁(572),所述装载架(7)的下端经同步传送轮(532)及摩擦导杆(71)传动且上端通过工件架导向磁铁(572)无接触运行于两块导向座磁铁(571)之间;真空室组区(2)、进片区(3)、出片区(4)和设置其上的磁导向传送装置(5)与适配的工件回行架(6)组成沿装载架镀膜运行方向(A)和装载架回行运行方向(B)连续循环运行的生产环路,实现基片的大面积抗反射导电膜的连续磁控溅射镀膜。
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