发明名称 |
Hochfluss-Photonenstrahlen verwendende optische Vorrichtungen |
摘要 |
Es ist ein System zur Erzeugung wenigstens eines Hochfluss-Photonenstrahls geschaffen. Das System enthält zwei oder mehrere Photonenquellen, die konfiguriert sind, um Photonenstrahlen zu erzeugen, und wenigstens eine optische Vorrichtung einer ersten Stufe, die mit wenigstens einer der Photonenquellen gekoppelt ist und wenigstens einen fokussierten Photonenstrahl durch innere Totalreflexion liefert, wobei wenigstens einer von den Photonenstrahlen und den fokussierten Photonenstrahlen in einem virtuellen Brennfleck miteinander kombiniert werden. |
申请公布号 |
DE102011000860(A1) |
申请公布日期 |
2011.08.25 |
申请号 |
DE20111000860 |
申请日期 |
2011.02.21 |
申请人 |
GENERAL ELECTRIC COMPANY |
发明人 |
LEE, SUSANNE MADELINE;NEUSER, EBERHARD;EDIC, PETER MICHAEL;MANI, VANITA;HOPKINS, FORRES FRANK |
分类号 |
G21K1/00;A61B6/00;A61N5/10;G21K1/02 |
主分类号 |
G21K1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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