| 发明名称 | 增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法 | ||
| 摘要 | 一种适用于铜的化学机械抛光(CMP)的组合物，其包含在液体载体中的研磨剂粉，例如二氧化硅和/或氧化铝研磨剂。该组合物具有小于约百万分之5(ppm)、优选小于约2ppm的过渡金属含量。该组合物优选含有小于约2ppm的钇、锆和/或铁。当所述CMP组合物与过氧化氢组合时，其通过改善浆料中过氧化氢的分解来提供具有改良的使用寿命的用于铜的CMP的CMP浆料。 | ||
| 申请公布号 | CN101316950B | 申请公布日期 | 2011.08.24 |
| 申请号 | CN200680044775.2 | 申请日期 | 2006.09.15 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 王育群;陆斌;约翰·帕克;罗杰·马丁 |
| 分类号 | C23F3/06(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C23F3/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种适用于铜的化学机械抛光的组合物，该组合物包含在用于过氧化氢以及氧化铝研磨剂粉的液体载体中的该过氧化氢和该氧化铝研磨剂粉；该组合物含有小于5ppm的量的过渡金属，其中该组合物含有小于0.1ppm的锆。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||