| 发明名称 | 抗蠕变抛光垫窗 | ||
| 摘要 | 抗蠕变抛光垫窗。本发明的抛光垫可以用来对磁性基片、光学基片和半导体基片中的至少一种进行抛光。所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层包括聚氨酯窗。所述聚氨酯窗包括由预聚物混合物中的脂族或脂环族异氰酸酯和多元醇形成的交联结构。所述预聚物混合物与包含OH或NH2基团的增链剂反应，其中OH或NH2与未反应的NCO的化学计量比小于95％。当在60℃的恒定温度下，在140分钟，以1千帕的恒定轴向张力负荷测量的时候，所述聚氨酯窗的随时间变化的应变小于或等于0.02％，肖氏D硬度为45-90，对于厚度为1.3毫米的样品，在400纳米波长下的双程透光率至少为15％。 | ||
| 申请公布号 | CN102161182A | 申请公布日期 | 2011.08.24 |
| 申请号 | CN201110024951.9 | 申请日期 | 2011.01.14 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 | 发明人 | A·洛亚克;A·纳卡塔尼;M·J·库尔普;D·G·凯利 |
| 分类号 | B24D3/00(2006.01)I;B24D3/28(2006.01)I | 主分类号 | B24D3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋;周承泽 |
| 主权项 | 一种抛光垫，所述抛光垫可以用来对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种进行抛光，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有聚氨酯窗，所述聚氨酯窗具有预聚物混合物中的脂族或脂环族异氰酸酯和多元醇形成的交联结构，所述预聚物混合物与包含OH或NH2基团的增链剂反应，其中OH或NH2与未反应的NCO的化学计量比小于95％，当在60℃的恒定温度下，在140分钟，以1千帕的恒定轴向张力负荷测量的时候，所述聚氨酯窗的随时间变化的应变小于或等于0.02％，肖氏D硬度为45‑80，对于厚度为1.3毫米的样品，在400纳米波长下的双程透光率至少为15％。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||