发明名称 用于清洗仪表探头的气洗装置及氢氟处理系统
摘要 公开了一种用于清洗仪表探头的气洗装置,其包括:仪表探头保护套和气洗机构,所述仪表探头容置于仪表探头保护套内,所述气洗机构包括基座和设于基座内的喷嘴,所述基座和所述仪表探头保护套连接,所述喷嘴与所述仪表探头相对,且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内,且所述喷嘴经高压气管与供气源连接。还公开了一种采用上述用于清洗仪表探头的气洗装置氢氟处理系统。通过将仪表探头安装在气洗装置的仪表探头保护套里,使得气洗机构的喷嘴对着所述仪表探头,从而使得从喷嘴出来的高压气体冲洗仪表探头,可以及时将沉淀在仪表探头的CaF2小颗粒冲洗掉,以确保仪表探头表面清洁,进而保证仪表探头的灵敏度,最终实现仪表探头的可靠稳定工作。
申请公布号 CN201940399U 申请公布日期 2011.08.24
申请号 CN201020639425.4 申请日期 2010.12.02
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 王兴宇;张云秀;赵记;杨文俊;厉晓华
分类号 B08B5/02(2006.01)I;C02F1/58(2006.01)I;C02F101/14(2006.01)N 主分类号 B08B5/02(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种用于清洗仪表探头的气洗装置,其特征在于,包括:仪表探头保护套和气洗机构,所述仪表探头容置于所述仪表探头保护套内,所述气洗机构包括基座和设于所述基座内的喷嘴,所述基座和所述仪表探头保护套连接,所述喷嘴与所述仪表探头相对,且所述仪表探头在所述喷嘴的射程范围内,且所述喷嘴经高压气管与供气源连接。
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