有机薄膜形成方法、有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液

摘要

本发明提供有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是将由具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(1)和在有机溶剂中能与所述金属类表面活性剂(1)相互作用的化合物得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(2)混合而得到的，该方法的特征为，含水量被调整或保持在规定量范围内；还提供有机薄膜形成方法，其通过使将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂和能与所述表面活性剂相互作用的催化剂混合而得到的有机溶剂溶液与基板接触，而在所述基板表面形成有机薄膜，该方法的特征为，所述有机溶剂溶液含有规定量的水分，并且含有20～2000ppm的作为所述金属类表面活性剂的水解产物的含羟基化合物；用于有机薄膜形成方法的有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液。

主权项

有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是由将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂1和能与所述金属类表面活性剂1相互作用的化合物在有机溶剂中混合而得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂2得到的，该方法的特征为，使用调整或保持含水量在50～1000ppm的有机薄膜形成用溶液，所述金属类表面活性剂1是式(I)表示的化合物，R1n MXm‑n    (I)式中，R1表示可以具有取代基的碳数10～30的烃基、可以具有取代基的碳数10～30的卤代烃基、含连接基团的烃基或含连接基团的卤代烃基，M表示选自硅原子、锗原子、锡原子、钛原子和锆原子中的至少1种金属原子，X表示羟基或水解性基团，所述水解性基团表示可以具有取代基的碳数1～6的烷氧基、可以具有取代基的酰氧基、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、异氰酸酯基、氰基、氨基或酰胺基，m表示M的原子价，n表示从1到(m‑1)的正整数，n为2以上时，R1可以相同也可以不同，(m‑n)为2以上时，X可以相同也可以不同，能与所述金属类表面活性剂1相互作用的化合物是烷氧基金属类或烷氧基金属类的部分水解产物，所述烷氧基金属类或烷氧基金属类的部分水解产物的金属是选自钛、锆、铝、硅、锗、铟、锡、钽、锌、钨和铅中的至少一种，所述金属类表面活性剂2是式(III)表示的化合物，R11n1M1X1m1‑n1(III)式中，R11表示可以具有取代基的烃基、可以具有取代基的卤代烃基、含连接基团的烃基或含连接基团的卤代烃基，M1表示选自硅原子、锗原子、锡原子、钛原子和锆原子中的至少1种金属原子，X1表示羟基或水解性基团，所述水解性基团表示可以具有取代基的碳数1～6的烷氧基、可以具有取代基的酰氧基、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、异氰酸酯基、氰基、氨基或酰胺基，m1表示M的原子价，n1表示从1到(m1‑1)的正整数，n1为2以上时，R11可以相同也可以不同，(m1‑n1)为2以上时，X1可以相同也可以不同。