发明名称 双腔流体输送装置
摘要
申请公布号 TWI347223 申请公布日期 2011.08.21
申请号 TW097112264 申请日期 2008.04.03
申请人 研能科技股份有限公司 发明人 陈世昌;张英伦;余荣侯;邱士哲;周宗柏
分类号 B05B9/04;B05B1/02 主分类号 B05B9/04
代理机构 代理人 王丽茹 台北市内湖区瑞光路583巷27号4楼;曾国轩 台北市内湖区瑞光路583巷27号4楼
主权项 一种双腔流体输送装置,用以传送一流体,其系包括:一汇流装置,其系具有:两侧面,其系相互对应;一第一流道及一第二流道,其系贯穿该两侧面;以及一入口通道及一出口通道,其系位于该两侧面之间,并分别与该第一流道及该第二流道相连通;一第一腔体及一第二腔体,其系对称设置于该汇流装置之该两侧面上,该第一腔体及该第二腔体各自包括:一阀体盖体,其系设置于该汇流装置之该侧面上;一阀体薄膜,其系设置于该汇流装置之该侧面与该阀体盖体之间;以及一致动装置,其周边系设置于该阀体盖体上,并与该阀体盖体定义出一压力室。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该阀体薄膜具有一第一阀门结构及一第二阀门结构,其系为镂空阀开关。如申请专利范围第2项所述之双腔流体输送装置,其中该阀体薄膜与该阀体盖体之间更包括一第一暂存区,而该阀体薄膜与该汇流装置之该侧面之间更包括一第二暂存区。如申请专利范围第3项所述之双腔流体输送装置,其中该阀体盖体上更设有与该压力室相连通之一第一阀门通道及一第二阀门通道。如申请专利范围第4项所述之双腔流体输送装置,其中该第一腔体及该第二腔体之该第一阀门结构、该第一暂存区及该第一阀门通道系对应于该汇流装置之该第一流道,而该第二暂存区、该第二阀门结构及该第二阀门通道系对应于该汇流装置之该第二流道。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该第一腔体及该第二腔体之该致动装置振动频率相同。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该致动装置系包括一致动器及一振动薄膜。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该第一腔体及该第二腔体更包括复数个密封环,其系分别设置于该汇流装置之该两侧面以及该阀体盖体之复数个凹槽内,且该密封环系部份突出于该凹槽,俾施一预力于该阀体薄膜。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该阀体薄膜系选自一高分子材料或一金属材料,且该阀体薄膜厚度相同。如申请专利范围第1项所述之双腔流体输送装置,其中该第一流道系为分流道,该第二流道系为汇流道。
地址 新竹市科学工业园区研发二路28号