| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements (10), welches eine reflektierende Beschichtung (10a) für den EUV-Wellenlängenbereich und ein Substrat (10b) aufweist, wobei das Verfahren umfasst: Vorverdichten des Substrats (10b) durch heißisostatisches Pressen, sowie Aufbringen der Beschichtung (10a) auf das vorverdichtete Substrat (10b). Die Erfindung betrifft auch ein Spiegelelement (10) für den EUV-Wellenlängenbereich mit einem durch heißisostatisches Pressen vorverdichteten Substrat (10b), sowie eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen Spiegelelement (10).</p> |
