| 发明名称 | 具有电子复合抑制结构层的染料敏化纳米薄膜太阳电池及制备 | ||
| 摘要 | 具有电子复合抑制结构层的染料敏化纳米薄膜太阳电池，电池结构为ITO/TiO2电极并吸附染料分子/电解质/电子复合抑制结构/Pt对电极/ITO，且在ITO基板上将吸附染剂分子之TiO2电极与对电极间加入电解质组成电池直接叠加在一起，并使用封装树脂将电池周边封装密闭电解液；所述电子复合抑制结构是：在对电极上或/与TiO2电极上均蒸发或溅射的氧化铝、氧化硅、聚合物或P型半导体材料。 | ||
| 申请公布号 | CN101447342B | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN200810244016.1 | 申请日期 | 2008.12.18 |
| 申请人 | 南京大学 | 发明人 | 邹志刚;田汉民;张继远;元世魁;张晓波;王湘艳;田志鹏;薛国刚;于涛 |
| 分类号 | H01G9/20(2006.01)I;H01G9/004(2006.01)I;H01M14/00(2006.01)I | 主分类号 | H01G9/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人 | 汤志武;王鹏翔 |
| 主权项 | 具有电子复合抑制结构层的染料敏化纳米薄膜太阳电池的制备方法，其特征是太阳电池的结构为ITO/TiO2电极并吸附染料分子/电解质/电子复合抑制结构层/Pt对电极/ITO染料敏化纳米薄膜太阳电池，且所述电子复合抑制结构层是在Pt对电极上或/与TiO2电极上溅射氧化铝，方法是：通过离子溅射方式，即在真空控制负压或气流的条件下溅射高纯铝片靶材，直到所需要的厚度；制备出光滑致密、高强度、低介电损耗和性能稳定的氧化铝层；且通过掩膜控制得到条纹状氧化铝电子复合抑制层，并以此部件组装成染料敏化太阳电池；通过调整其电子复合抑制结构层的厚度，控制电池正负极的距离，距离范围为30nm‑100微米。 | ||
| 地址 | 210093 江苏省南京市汉口路22号 | ||