用于在共用等离子涂覆区沉积多种涂覆材料的装置与方法

摘要

一种装置和方法，其用于涂覆沿行进路径穿过该装置移动的基材(20)。等离子源(30)射出等离子射流(32)，第一试剂从位于该射流上游位置的排出嘴口(144、146)注射到所述等离子射流(32)内。第二试剂从位于所述射流下游位置的排出嘴口(244、246)注射到所述射流内。控制器(166)被构造用于根据第一组参数调节第一试剂的流动并且根据第二组参数调节第二试剂的流动。结果，第一试剂和第二试剂被涂施在基材上，从而在基材上形成涂层的至少一个层。

主权项

一种用于涂覆基材的装置，所述基材沿着行进路径移动穿过所述装置，所述装置包括：至少一个等离子源，其构造用于在所述基材沿所述路径移动时向所述基材射出等离子射流；包含第一试剂的第一试剂源；至少一个上游排出嘴口，其相对于所述基材的所述行进路径位于所述等离子源的上游，所述第一试剂源与所述上游排出嘴口联接，所述上游排出嘴口被定位成从所述第一试剂源将所述第一试剂喷射到从所述等离子源射出的等离子射流中；包含第二试剂的第二试剂源，所述第二试剂与所述第一试剂不同；至少一个下游排出嘴口，其相对于所述基材的所述行进路径位于所述等离子源的下游，所述第二试剂源与所述下游排出嘴口联接，所述下游排出嘴口被定位成从所述第二试剂源将所述第二试剂喷射到从所述等离子源射出的等离子射流中；和控制器，其构造用于根据第一组参数调节所述第一试剂向所述上游排出嘴口的流动，所述控制器被构造用于根据第二组参数调节所述第二试剂向下游排出嘴口的流动，从而所述第一试剂和所述第二试剂被涂施在所述基材上以在所述基材上形成涂层的至少一个层。