| 发明名称 | 用于衬底处理腔的环组件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于在衬底处理腔中使用的衬底支架的环组件，该衬底支架包含环形壁架和内周界侧壁。在一个方案中，环组件包含(i)L形绝缘环，包括设置在支架的环形壁架上的水平臂和邻接支架的内周界侧壁的垂直臂，以及(ii)包含具有与沉积环的水平臂交迭的重叠壁架的环形带的沉积环。在另一方案中，沉积环包含围绕支架的环形壁架并与支架的环形壁架交迭的电介质环形带和托架及紧固件。 | ||
| 申请公布号 | CN102157425A | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN201110025125.6 | 申请日期 | 2007.01.17 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 珍妮弗·蒂勒;艾伦·K·劳;马克·O’唐奈·施韦特;史蒂文·V·桑森尼;基恩·A·米勒;克里斯托弗·博伊特诺特 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;赵静 |
| 主权项 | 一种用于衬底支架的绝缘环，所述衬底支架包含具有圆周边缘的环形壁架，并且具有内周界侧壁，所述绝缘环包含L型的电介质环，所述L型的电介质环具有：(a)激光纹理化的表面；(b)水平臂，所述水平臂能够设置在所述衬底支架的所述环形壁架上，所述水平臂具有径向向外延伸而不达到所述环形壁架的所述圆周边缘的长度；以及(c)垂直臂，所述垂直臂邻接所述衬底支架的所述内周界侧壁。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||