| 发明名称 | 光学邻近修正的判断方法 | ||
| 摘要 | 一种光学邻近修正的判断方法，包括：提供具有原始图案的光掩模版；将所述光掩膜版的原始图案分割为若干子图案，并对至少一个子图案进行光学邻近修正，获得至少一个修正子图案及其对应的掩膜误差增强因子；提供掩膜误差增强因子的阈值；若修正子图案对应的掩膜误差增强因子小于所述掩膜误差增强因子阈值，则接受所述修正子图案的修正；若修正子图案对应的掩膜误差增强因子不小于所述掩膜误差增强因子阈值，再判断：若修正子图案满足工艺界限要求，则接受所述修正子图案的修正；若修正子图案不满足工艺界限要求，则不接受所述修正子图案的修正。所述光学邻近修正方法防止因对光掩膜版进行光学邻近修正后，导致晶圆上的电学结构失效的现象。 | ||
| 申请公布号 | CN102156382A | 申请公布日期 | 2011.08.17 |
| 申请号 | CN201110117365.9 | 申请日期 | 2011.05.06 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 周从树;顾以理;钟政;张迎春 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种光学邻近修正的判断方法，其特征在于，包括下列步骤：提供具有原始图案的光掩模版；将所述光掩膜版的原始图案分割为若干子图案，并对至少一个子图案进行光学邻近修正，获得至少一个修正子图案及其对应的掩膜误差增强因子；提供掩膜误差增强因子的阈值；若修正子图案对应的掩膜误差增强因子小于所述掩膜误差增强因子阈值，则接受所述修正子图案的修正；若修正子图案对应的掩膜误差增强因子不小于所述掩膜误差增强因子阈值，再判断：若修正子图案满足工艺界限要求，则接受所述修正子图案的修正；若修正子图案不满足工艺界限要求，则不接受所述修正子图案的修正。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区浦东张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||