发明名称 |
双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机 |
摘要 |
本实用新型提供一种双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、一维运动平台和F-θ透镜组,控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上,激光发生器、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附平台上方,激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心,F-θ透镜组安装在二维振镜头下部,一维运动平台安装在机架与吸附平台之间,吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。本双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,辅助时间短,生产效率高。 |
申请公布号 |
CN201931205U |
申请公布日期 |
2011.08.17 |
申请号 |
CN201120001278.2 |
申请日期 |
2011.01.05 |
申请人 |
武汉吉事达激光技术有限公司 |
发明人 |
陈刚;任清荣;辛天才 |
分类号 |
B23K26/36(2006.01)I;B23K26/08(2006.01)I;B23K26/04(2006.01)I;B23K26/42(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/36(2006.01)I |
代理机构 |
武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 |
代理人 |
朱必武;曾祥斌 |
主权项 |
双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头和F θ透镜组,控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上,激光发生器、二维振镜头和F θ透镜组安装在吸附平台上方,激光发生器的激光出光孔与二维振镜头的激光进光孔同心,F θ透镜组安装在二维振镜头下部,其特征在于:还包括一维运动平台;一维运动平台安装在机架与吸附平台之间,吸附平台的长度大于所刻蚀ITO薄膜材料宽度的两倍。 |
地址 |
430071 湖北省武汉市东湖开发区关东科技园(创业中心)7-5号 |