COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO FOTOSENSIBLES PARA ELEMENTOS LITOGRAFICOS.

摘要

Una composición de una capa fotopolimerizable que comprende: (a) un ligante polimérico; (b) un monómero etilénicamente insaturado que presenta una funcionalidad de tres o más;(c) un compuesto que absorbe las radiaciones; (d) un fotoacelerador; y (e) un compuesto onio;caracterizado porque la composición de la capa fotopolimerizable comprende además un activador de adherencia, y dicho compuesto fotoacelerador se escoge del grupo constituido por alquiltiocarbamatos metálicos, alquilariltiocarbamatos metálicos, derivados de mercapto-benzotioazol, de benzimidazol, de benzoxazol y de quinazolina, disulfuro de alquiltiuram, disulfuro de alquilariltiuram, y mezclas de los mismos.