| 主权项 |
一种搬运装置，配置于真空室内，具有固定基座、相对于前述固定基座可旋转地被保持的旋转基座、被前述旋转基座支撑之直线移动机构及被前述直线移动机构支撑的手，在前述旋转基座期望之旋转位置中，藉由前述直线移动机构之动作，使载置于前述手上之工件一边保持水平一边搬运，其中，在前述旋转基座或前述直线移动机构之下表面侧适当部位设有热辐射面，在形成前述真空室之壁体中，与前述旋转基座下表面侧相向之壁体的至少一部份设有热吸收面，其中，设有将以前述热吸收面吸收之热散出外部之冷却机构。如申请专利范围第1项所述之搬运装置，其中，在前述旋转基座或前述直线移动机构之上表面侧适当部位，设有将来自前述手侧之热加以反射之热反射面。如申请专利范围第1项所述之搬运装置，其中，前述热吸收面，系设于前述真空室底面或前述固定基座之朝向前述真空室的露出面至少一部份上。如申请专利范围第1项所述之搬运装置，其中，前述冷却机构之构成，系包含密接包围设于前述热吸收面之构件的冷媒循环通路。如申请专利范围第1项所述之搬运装置，其中，前述直线移动机构之构造，系由连结复数臂体而构成之连杆臂机构，前述连杆臂机构上表面侧适当部位设有前述热反射面，同时，前述连杆臂机构下表面侧适当部位设有前述热辐射面。如申请专利范围第5项所述之搬运装置，其中，前述直线移动机构，系而且具有被前述旋转基座支撑，且将前述手导引移动到既定方向之导轨，在前述导轨与前述手之间设有前述热反射面。 |
