发明名称 一种新型的真空纳米技术涂膜设备
摘要 本实用新型公开了一种新型的真空纳米技术涂膜设备,包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成,所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接,在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定,其特征在于所述的沉积桶的桶口采用大于沉积桶的透明玻璃作为沉积桶盖,所述的沉积桶盖跟沉积桶用合页连接,所述的沉积桶盖跟沉积桶用还可以用钩锁或卡扣连接。采用了大于沉积桶的透明玻璃作为沉积桶的盖子,在加工时可以随时观察其工作过程,发现问题能够得到及时的处理。
申请公布号 CN201921797U 申请公布日期 2011.08.10
申请号 CN201120033047.X 申请日期 2011.01.21
申请人 刘芝庆 发明人 刘芝庆
分类号 B05C3/09(2006.01)I;B05C11/11(2006.01)I 主分类号 B05C3/09(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种新型的真空纳米技术涂膜设备,包括机箱、加热炉、沉积桶和承托架组成,所述的加热炉、沉积桶和承托架用金属管连接,在所连接接口处设置有连接法兰并用扣环固定,其特征在于所述的沉积桶的桶口采用大于沉积桶的透明玻璃作为沉积桶盖,所述的沉积桶盖跟沉积桶用合页连接。
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