| 发明名称 | 用于涂敷功能层的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于在具有活性材料层的集流体上涂敷功能层的设备和方法，所述设备包括：第一辊和第二辊，第一辊和第二辊用于使集流体前进；凹印辊，凹印辊被构造为将功能层涂敷在活性材料层上；厚度测量器，厚度测量器被构造为测量活性材料层的厚度以及活性材料层和功能层的总厚度中的至少一个厚度；控制器，控制器与厚度测量器通信并被构造为控制凹印辊的旋转速度。 | ||
| 申请公布号 | CN102145327A | 申请公布日期 | 2011.08.10 |
| 申请号 | CN201110034897.6 | 申请日期 | 2011.01.30 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 文炤壹;黄智祥;金秀涣;李亨鲁 |
| 分类号 | B05C1/12(2006.01)I;B05C11/02(2006.01)I;B05C11/04(2006.01)I;B05D5/00(2006.01)I;H01M4/04(2006.01)I | 主分类号 | B05C1/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 郭鸿禧;罗延红 |
| 主权项 | 一种用于在具有活性材料层的集流体上涂敷功能层的设备，所述设备包括：第一辊和第二辊，所述第一辊和所述第二辊用于使所述集流体前进；凹印辊，所述凹印辊被构造为将所述功能层涂敷在所述活性材料层上；厚度测量器，所述厚度测量器被构造为测量所述活性材料层的厚度以及所述活性材料层和所述功能层的总厚度中的至少一个厚度；和控制器，所述控制器与所述厚度测量器通信并被构造为控制所述凹印辊的旋转速度。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市 | ||