投影光学系统、扫描曝光装置以及微元件的制造方法

摘要

本发明是有关于一种扫描曝光装置，其包括第1投影光学系统以及第2投影光学系统，第1投影光学系统于第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域，第2投影光学系统于第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域；当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，则满足Dp＝β×Dm，其中第1间隔是沿着第1视场与第2视场的第1面上的扫描方向的间隔，第2间隔是沿着第1投影区域与第2投影区域的第2面上的扫描方向的间隔。

主权项

一种扫描曝光装置，其将配置于第1面上的第1物体与配置于第2面上的第2物体在扫描方向中同步移动，且使上述第1物体的像扫描曝光于上述第2物体上，其特征在于其包括：第1投影光学系统，将上述第1面的第1视场的放大像形成至上述第2面上的第1投影区域内；以及第2投影光学系统，将上述第1面的与上述第1视场不同的第2视场的放大像形成至上述第2面上的与上述第1投影区域不同的第2投影区域内，且上述第1投影光学系统包括第1偏向构件，使与上述第1面正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的一侧；以及第2偏向构件，使由上述第1偏向构件而来之在上述扫描方向的一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第1投影区域，上述第2投影光学系统包括第3偏向构件，使在上述正交的方向中进行的光偏向上述扫描方向的另一侧；以及第4偏向构件，使由上述第3偏向构件而来之在上述扫描方向的另一侧进行的光偏向上述正交的方向且导向上述第2投影区域，当将上述扫描方向中的上述第1视场和上述第2视场的间隔设为Dm、将上述扫描方向中的上述第1投影区域和上述第2投影区域的间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足Dp＝|β|×Dm的关系。