光刻设备

摘要

本发明公开了一种浸没式光刻设备，其包括被配置用于供给流体的流体供给系统，所述流体供给系统具有腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔将进入所述腔的流体沿朝在所述多个出口孔之间的第二侧壁的区域的方向引导。

主权项

一种浸没式光刻设备，包括配置用于供给流体的流体处理系统，所述流体处理系统包括腔，所述腔具有在第一侧壁中的多个进口孔和在第二侧壁中的多个出口孔，所述第一侧壁面对所述第二侧壁，其中，所述进口孔被设置以将进入所述腔的流体沿朝向所述多个出口孔之间的所述第二侧壁的区域的方向引导。