| 发明名称 | 多色调光掩模和使用该多色调光掩模的图案转印方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及多色调光掩模和使用该多色调光掩模的图案转印方法。本发明的多色调光掩模通过设置在透明基板(21)上的、遮蔽曝光光的遮光膜(23)和使所述曝光光的一部分透过的半透膜(22)从而具有拥有透光区域、遮光区域以及半透光区域的转印图案。利用数值孔径为0.08、相干度为0.8的光学系统来接收通过所述多色调光掩模的、g线、h线、i线各自强度为1∶1∶1的曝光光，求出所述半透光区域的有效透过率，此时，所述半透光区域的有效透过率的掩模面内分布范围为2.0％以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101546117B | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN200910129754.6 | 申请日期 | 2009.03.26 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 吉田光一郎 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 黄纶伟 |
| 主权项 | 一种多色调光掩模，其通过在透明基板上形成遮蔽曝光光的遮光膜和使所述曝光光的一部分透过的半透膜、并对该遮光膜和半透膜分别进行图案加工，从而形成具有透光区域、遮光区域以及半透光区域的转印图案，该多色调光掩模的特征在于，在所述多色调光掩模上，使用g线、h线、i线各自强度为1∶1∶1的照射光，使用数值孔径为0.08、相干度为0.8的光学系统来对所述多色调光掩模进行曝光，接收其透过光而求出所述半透光区域的有效透过率时，所述半透光区域的有效透过率的掩模面内分布范围为2.0％以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||