发明名称 | 用于光刻胶的抗反射组合物 | ||
摘要 | 本发明涉及一种包含可通过以下方式得到的聚合物的涂料溶液:将甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基的反应性化合物反应,并且进一步其中该聚合物可溶于有机溶剂。本发明还涉及一种将涂覆在该涂料组合物上的光刻胶成像的方法,并且涉及一种用于该涂料组合物的聚合物。 | ||
申请公布号 | CN101027610B | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
申请号 | CN200580031007.9 | 申请日期 | 2005.09.15 |
申请人 | AZ电子材料美国公司 | 发明人 | 吴恒鹏;李丁术季;向中;菱田有高;单*会;庄弘 |
分类号 | G03F7/09(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/09(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 邓毅 |
主权项 | 一种用作抗反射涂料的包含可通过以下方式得到的聚合物的涂料溶液:将至少一种甘脲化合物与至少一种含有2个或更多个羟基的反应性化合物反应,并且进一步其中该聚合物可溶于有机溶剂,和该涂料溶液进一步包含有机溶剂混合物。 | ||
地址 | 美国新泽西 |