| 发明名称 | 低释气性光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开用于光刻胶组合物中的聚合物，其包括具有下式的重复单元，其中Z表示聚合物主链的重复单元；X为选自由以下组成的组的连接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且R选自由以下组成的组：氢、烷基、芳基及环烷基；其条件为X与R不为同一环系统的一部分。本发明也公开光刻胶组合物的浮雕影像的图案化方法，其中该光刻胶组合物具有小于6.5E+14个分子/平方厘米/秒的释气速率。<img file="dda0000059288760000011.GIF" wi="520" he="528" /> | ||
| 申请公布号 | CN102143981A | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN200980134701.1 | 申请日期 | 2009.07.16 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | R·苏里亚库马兰;H·特鲁昂;R·A·迪皮特罗;S·A·斯万松 |
| 分类号 | C08F36/20(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I | 主分类号 | C08F36/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 林柏楠;彭立兵 |
| 主权项 | 1.一种包含具有下式的重复单元的聚合物：<img file="FDA0000049064200000011.GIF" wi="467" he="490" />其中Z表示聚合物主链的重复单元；X为选自由以下组成的组的连接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且R选自由以下组成的组：氢、烷基、芳基及环烷基；其条件为X与R不为同一环系统的一部分。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||