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一种旋转平衡调整构造，所述旋转平衡调整构造设于预定之转盘或转轴结构上呈环状间隔平均分布状态，该旋转平衡调整构造包括与通过轴心之径向线互成错向延伸设置的调整定位部，以及组配于所述调整定位部之调整构件，所述调整定位部具有沿其设向分布的复数定位构形，令调整构件可被调移并与不同位置之定位构形达成配合定位状态；其中所述调整定位部包括沿着转盘或转轴周边设置的长形槽室，该长形槽室之一侧设有缩口，以使其定位构形为设于长形槽室内一侧之齿排所构成，所述调整构件为一侧具齿缘之块体所构成，该块体可于长形槽室中调移，其调移状态得藉由所述齿缘与齿排之啮合达成定位，该块体与长形槽室之间并组配有弹性构件，以令块体之齿缘常态朝齿排啮合定位，块体朝缩口之该端则设有控位部，以供控制该块体呈饰释放定位之状态者。依据申请专利范围第1项所述之旋转平衡调整构造，其中所述控位部可为穿伸出缩口之凸伸缘所构成者。依据申请专利范围第2项所述之旋转平衡调整构造，其中该凸伸缘并可设有一工具插孔。依据申请专利范围第1项所述之旋转平衡调整构造，其中所述控位部可为对应缩口之工具抵插槽所构成者。 |
