| 摘要 |
<p>Ein Verfahren zur Abscheidung einer Antireflexschicht (6) auf einem Substrat (1) wird angegeben, das folgende Schritte aufweist. Ein Substrat (1), das mehrere Solarzellenstrukturen (2) aufweist, wird bereitgestellt und in eine Vakuumkammer (11) mit einem Festkörper (13), der Silizium aufweist, angeordnet. Ein Fluss eines stickstoffhaltigen reaktiven Gases (20) in die Vakuumkammer (11) wird auf einen ersten Wert eingestellt, während eine Spannung zwischen dem Festkörper (13) und Massepotential (14) ausgeschaltet ist, erhöht auf einen zweiten Wert und eine Spannung zwischen dem Festkörper (13) und Massepotential (14), wobei eine Schicht (6) aus Silizium und Stickstoff auf das Substrat (1) unter eines Flusses des stickstoffhaltigen reaktiven Gases (20), der höher als der erste Wert ist, abgeschieden wird. [Fig. 5a]</p> |
