Photovoltaik-Dünnschichtaufbau und Herstellungsverfahren

摘要

Photovoltaik-Dünnschichtaufbau mit–einer photoelektrisch aktiven Absorberschicht (3),–einer transparenten Frontkontaktschicht (5) und–einer mehrlagigen Pufferschicht (4) zwischen der Absorberschicht (3) und der Frontkontaktschicht (5), dadurch gekennzeichnet, dass–die Pufferschicht (4) eine Zn-S-Schichtlage (4a) auf der Absorberschicht (3), eine bordotierte Zn-O-Schichtlage (4b) auf der Zn-S-Schichtlage (4a) und eine undotierte Zn-O-Schichtlage (4c) auf der bordotierten Zn-O-Schichtlage (4b) umfasst oder–die Pufferschicht (4) eine Zn-S-Schichtlage (4a) auf der Absorberschicht (3), eine Zn-Mg-O-Schichtlage (4b) auf der Zn-S-Schichtlage (4a) und eine undotierte Zn-O-Schichtlage (4c) auf der Zn-Mg-O-Schichtlage (4b) umfasst.