| 发明名称 | 制备滤色器的黑矩阵的方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。 | ||
| 申请公布号 | CN101013219B | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
| 申请号 | CN200610148645.5 | 申请日期 | 2006.11.22 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金圣雄;金佑植;车泰运;裵纪德;金晟镇;辛承柱;白锡淳 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02B5/23(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 一种制备滤色器的黑矩阵的方法，包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图所述光遮挡层形成了黑矩阵；在所述黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有所述阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射所述黑矩阵的上部分。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||