| 发明名称 | 绝缘膜材料、使用该绝缘膜材料的成膜方法和绝缘膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供了以下述化学式(1)表示的等离子体CVD用绝缘膜材料，使用了该绝缘膜材料的成膜方法和绝缘膜。在式(1)中，m和n是3～6的整数，m和n在一个分子中可以相同，也可以相互不同。<img file="dpa00001324958900011.GIF" wi="1709" he="226" /> | ||
| 申请公布号 | CN102138205A | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
| 申请号 | CN200980134004.6 | 申请日期 | 2009.09.01 |
| 申请人 | 独立行政法人物质·材料研究机构;大阳日酸株式会社 | 发明人 | 大野隆央;田岛畅夫;稻石美明;神力学;宫泽和浩 |
| 分类号 | H01L21/312(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/312(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 陈万青;王珍仙 |
| 主权项 | 1.一种等离子体CVD用绝缘膜材料，以下述化学式(1)表示，<img file="FPA00001324959100011.GIF" wi="1710" he="226" />在式(1)中，m和n是3～6的整数，m和n在一个分子中可以相同，也可以相互不同。 | ||
| 地址 | 日本茨城 | ||