可控靶冷却

摘要

本发明公开了一种溅射靶组件(18，20)，对于较大面板的等离子体溅射反应器特别有用。该反应器具有密封到主处理室(14)和真空泵吸室(32)两者的靶组件，真空泵吸室容纳移动的磁控管(30)。靶瓦接合到其的靶组件包括一体板(62)，其具有平行于主表面钻出的平行冷却孔(64)。孔的端部可以被密封(74)，且竖直延伸的槽(66、68、70、72)在每侧上布置为两个交错的群组，并成对地向下机械加工到在衬背板的相对侧上的各自的冷却孔对。四个歧管(104、106)密封到四个群组的槽，并提供了逆流的冷却剂路径。

主权项

一种溅射靶，包括：衬背板，所述衬背板包括：形成在其中的多个横向延伸的、平行的、圆筒形冷却孔，所述冷却孔沿着其各自的钻孔轴线从所述衬背板的横向一侧延伸到横向另一侧；和塞子，所述塞子密封住每个所述冷却孔的两端，其中，所述衬背板还包括从所述衬背板的两个主表面中的至少一个延伸到所述冷却孔的入口孔和出口孔；和一个或多个溅射靶瓦，其接合到所述衬背板的两个主表面中的第一主表面。