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发明名称 PROCESS FOR FORMING A SINGLE-CRYSTAL FILM IN THE MICROELECTRONICS FIELD
摘要
申请公布号 EP2342744(A1) 申请公布日期 2011.07.13
申请号 EP20090760241 申请日期 2009.10.29
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIESALTERNATIVES 发明人 FOURNEL, FRANCK;SIGNAMARCHEIX, THOMAS;CLAVELIER, LAURENT;DEGUET, CHRYSTEL
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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