| 主权项 |
一种足弓垫改良结构，该足弓垫是设于鞋子底部，且足弓垫分布有上、下贯穿之透气孔，并足弓垫中段向上弧凸有一足弓部，其特征系在于：足弓部下方至少形成有一容室，容室内可置入足用制剂，而后足弓部下方恰好设有将足用制剂定位于容室范围之下盖。如申请专利范围第1项所述之「足弓垫改良结构」，其中，该下盖可增设有上、下贯穿之下盖透孔。如申请专利范围第1项所述之「足弓垫改良结构」，其中，该足弓垫上方又可贴设有一软垫。如申请专利范围第1或2或3项所述之「足弓垫改良结构」，其中，该容室前、后侧又上凹有嵌接下盖前、后段之面凹部。如申请专利范围第1或2或3项所述之「足弓垫改良结构」，其中，该容室左、右侧可增设有上凹之嵌接槽，而下盖另可设有插接嵌接槽之肋部者。 |
