发明名称 制备噻唑化合物的方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.07.11
申请号 TW094117685 申请日期 2005.05.30
申请人 住友化學股份有限公司 日本 发明人 高野尚之 日本;世古信三 日本;田中一幸 日本
分类号 C07D277/32;C07D251/04 主分类号 C07D277/32
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种制备式(3)噻唑化合物的方法@sIMGTIF!d10018.TIF@eIMG!(其中X1为氢原子或卤素原子),包括以下步骤:令式(1)化合物@sIMGTIF!d10019.TIF@eIMG!(其中X1系如以上所定义者,X2为卤素原子)与氨及甲醛反应而得到式(2)之六氢三@sIMGCHAR!d10071.TIF@eIMG!化合物:@sIMGTIF!d10020.TIF@eIMG!(其中X1系如以上所定义者),并将所得式(2)六氢三@sIMGCHAR!d10072.TIF@eIMG!化合物加以水解。如申请专利范围第1项之方法,其中甲醛为三聚甲醛或福马林。如申请专利范围第1项之方法,其中甲醛用量以每莫耳式(1)化合物计为1至10莫耳。如申请专利范围第1项之方法,其中氨的用量以每莫耳式(1)化合物计为2至10莫耳。如申请专利范围第1项之方法,其中该水解是藉由使式(2)六氢三@sIMGCHAR!d10073.TIF@eIMG!化合物与酸的水溶液接触而进行。如申请专利范围第5项之方法,其中该水解是在C1-4烷醇化合物的存在下进行。一种如式(2)之六氢三@sIMGCHAR!d10074.TIF@eIMG!化合物@sIMGTIF!d10021.TIF@eIMG!(其中X1为氢原子或卤素原子)或其酸加成盐。一种制备式(2)六氢三@sIMGCHAR!d10075.TIF@eIMG!化合物之方法@sIMGTIF!d10022.TIF@eIMG!(其中X1为氢原子或卤素原子),包括令式(1)化合物@sIMGTIF!d10023.TIF@eIMG!(其中X1系如以上所定义者,X2为卤素原子)与氨及甲醛反应。如申请专利范围第8项之方法,其中甲醛用量以每莫耳式(1)化合物计为1至10莫耳。如申请专利范围第8项之方法,其中氨的用量以每莫耳式(1)化合物计为2至10莫耳。一种制备式(3)噻唑化合物之方法@sIMGTIF!d10024.TIF@eIMG!(其中X1为卤素原子或氢原子),包括将式(2)六氢三@sIMGCHAR!d10076.TIF@eIMG!化合物@sIMGTIF!d10025.TIF@eIMG!(其中X1系如以上所定义者)加以水解。如申请专利范围第11项之方法,其中该水解是藉由使式(2)六氢三@sIMGCHAR!d10077.TIF@eIMG!化合物与酸的水溶液接触而进行。如申请专利范围第12项之方法,其中该水解是在C1-4烷醇化合物的存在下进行。
地址 日本