发明名称 高密度双层光学磁碟
摘要
申请公布号 TWI345236 申请公布日期 2011.07.11
申请号 TW096107565 申请日期 2003.06.05
申请人 LG电子股份有限公司 发明人 金进镛;朴景灿;郑盛允
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种高密度记录媒体,包括:该记录媒体的一光入射表面(light incident surface)与该光入射表面的一相反表面(opposite surface);一基材(substrate),其包含一透明层;一第一记录层,其位于接近该光入射表面的地方;以及一第二记录层,其位于该第一记录层与该相反表面之间,其中从该光入射表面至该第一记录层的最小厚度与从该光入射表面至该第二记录层的最大厚度系取决于该透明层的折射率,且当该透明层的折射率在1.45至1.70之范围中增加时,该最小厚度与最大厚度变大,且该第一与第二记录层之间的距离为大于14微米之一值。如申请专利范围第1项所述之高密度记录媒体,其中该第一与第二记录层之间的距离小于24微米。如申请专利范围第1项所述之高密度记录媒体,其中当该透明层的折射率为1.45时,该最小与最大厚度具有最小值。如申请专利范围第3项所述之高密度记录媒体,其中该最小厚度的最小值为68.5微米。如申请专利范围第4项所述之高密度记录媒体,其中该最大厚度的最大值为110.5微米。一种用于记录至一光学记录媒体或自一光学记录媒体再生之装置,包括:一光学检取器,其记录资料至该光学记录媒体或自该光学记录媒体再生资料;一控制器,其控制该检取器记录资料至该光学记录媒体的该第一与第二记录层或自该光学记录媒体的该第一与第二记录层再生资料,其中该记录媒体包含:该记录媒体的一光入射表面,该光入射表面的一相反表面;一基材,其包含一透明层;一第一记录层,其位于接近该光入射表面的地方;以及一第二记录层,其位于该第一记录层与该相反表面之间,更进一步其中从该光入射表面至该第一记录层的最小厚度与从该光入射表面至该第二记录层的最大厚度系取决于该透明层的折射率,且当该透明层的折射率在1.45至1.70之范围中增加时,该最小厚度与最大厚度变大,且该第一与第二记录层之间的距离为大于14微米之一值。如申请专利范围第6项所述之装置,其中该第一与第二记录层之间的距离为小于24微米之一值。如申请专利范围第6项所述之装置,其中当该透明层的折射率为1.45时,该最小与最大厚度具有最小值。如申请专利范围第8项所述之装置,其中该最小厚度的最小值为68.5微米。如申请专利范围第9项所述之装置,其中该最大厚度的最大值为110.5微米。
地址 南韩