| 主权项 |
一种半导体设计支援设备，包含：一图案资料产生单元，产生一识别图案之图案资料，该图案资料配置于一区域对称于一第1轴与一垂直于该第1轴之第2轴两者，并且形成为不对称于该第1与第2轴两者；一布局执行单元，用于决定一巨集晶胞之布局，于其中，该识别图案被配置以产生布局图案资料；与一布局验证单元，基于该布局图案资料，读出配置于该巨集晶胞中之该识别图案之图案资料，以基于所读出之图案资料所指示之该识别图案，验证该巨集晶胞之配置方向，其中该布局验证单元，记忆着图案资料，此图案资料系藉由对于包括在以任意方向配置之巨集晶胞中的该识别图案施行一预定的图形计算处理所得到，并藉由使用一验证对象图案及使用验证资料验证该巨集晶胞之配置方向，该验证对象图案，系透过对于读出自该布局图案资料之一图案资料所指示之该识别图案施行该预定的图形计算处理所得到，其中该识别图案包含：一第1图案；一第2图案，与该第1图案相距一第1距离；一第3图案，与该第1图案相距一第2距离，该图案资料产生单元，以该第1图案与该第2图案配置于该第1轴，该第1图案与该第3图案配置于该第2轴，该第1距离与该第2距离为不同的方式，形成该识别图案，该布局验证单元，产生一变形的第1图案，系藉由将该第1图案基于对应于该第1距离之一第1长度予以变形。如申请专利范围第1项之半导体设计支援设备，其中，该布局验证单元，产生该变形的第1图案，系更藉由将该第1图案基于对应于该第2距离之一第2长度予以变形，并且基于判断是否该变形的第1图案接触该第2图案，而验证该巨集晶胞之配置方向。如申请专利范围第1项之半导体设计支援设备，其中，该布局验证单元，基于该第1图案之外形以验证该巨集晶胞之配置方向。一种电脑可读取之媒体，具有电脑可执行之指令，由电脑执行时，实行包含以下步骤之方法：(a)产生一识别图案之图案资料，配置于一区域对称于一第1轴与一与第1轴成垂直之第2轴两者，并形成为不对称于该第1与第2轴两者；(b)决定一巨集晶胞之布局，其中，该识别图案被配置以产生布局图案资料；(c)基于该布局图案资料，读出配置于该巨集晶胞之该识别图案之该图案资料；与(d)基于该读出图案资料所指示之该识别图案，验证该巨集晶胞之配置方向，其中，该(d)验证步骤包含：读出一验证资料，其包括藉由对配置于该巨集晶胞之该识别图案执行一预定的图形计算处理所得到之一图案；与藉由使用一验证对象图案与该验证资料，验证该巨集晶胞之配置方向，该验证对象图案，系透过对于读出自该布局图案资料之一图案资料所指示的该识别图案施行该预定的图形计算处理所得到。如申请专利范围第4项之电脑可读取之媒体，其中，该(d)验证步骤，更包含：产生该变形的第1图案，系藉由使该第1图案，基于对应于该第2距离之一第2长度予以变形；与基于判断是否该变形的第1图案接触该第2图案，以验证该巨集晶胞之配置方向。如申请专利范围第4项之电脑可读取之媒体，其中，该(d)验证步骤包含：基于该变形的第1图案之外形验证该巨集晶胞之配置方向。一种布局图案验证方法，包含：(a)产生一识别图案之图案资料，系配置于一区域对称于一第1轴与一垂直于该第1轴之第2轴两者，并形成为不对称于该第1轴与第2轴两者；(b)决定一巨集晶胞之布局，其中该识别图案被配置以产生布局图案资料；(c)基于该布局图案资料，读出配置于该巨集晶胞之该识别图案之该图案资料；与(d)基于该读出图案资料所指示的该识别图案，验证该巨集晶胞之配置方向，其中，该(d)验证步骤，包含：读出一验证资料，其包括对于配置于该巨集晶胞之该识别图案施行一预定的图形计算处理所得到之图案；与使用一验证对象图案及该验证资料，验证该巨集晶胞之配置方向，该验证对象图案，系透过对于读出自该布局图案资料之一图案资料所指示的该识别图案施行该预定的图形计算处理所得到，其中，该识别图案，包含：一第1图案；一第2图案，与该第1图案相距一第1距离，一第3图案，与该第1图案相距一第2距离，该(a)产生步骤，包含：形成该识别图案，其中，该第1图案与该第2图案配置于该第1轴，该第1图案与该第3图案配置于该第2轴，该第1距离与该第2距离为不同的，及该(d)验证步骤，包含：产生一变形的第1图案，系藉由使该第1图案，基于对应于该第1距离之一第1长度予以变形。如申请专利范围第7项之布局图案验证方法，其中，该(d)验证步骤，包含：产生该变形的第1图案，系藉由使该第1图案，基于对应于该第2距离之一第2长度予以变形；与基于判断是否该变形的第1图案接触该第2图案，以验证该巨集晶胞之配置方向。如申请专利范围第7项之布局图案验证方法，其中，该(d)验证步骤，包含：基于该变形的第1图案之外形，验证该巨集晶胞之配置方向。 |
