制造光学资料储存媒体之方法，光学资料储存媒体及用以实施该方法之装置

主权项

一种制造光学资料储存媒体之方法，该媒体包含至少一个基板及复数个沉积于该基板上之层，包含一透明间隔层及透明覆盖层两者至少其中之一，该层被提供之方式是藉由将一液体涂在旋转基板上且进一步旋转该基板以将液体在内径ri与外径ro之间实质均匀地散开成一层，且藉由UV射线照射以凝固该液体层，其特征为：-在将液体涂在旋转基板上之后，液体层被加热装置加热，在此方式中，-液体层在ri之温升值为δTri，-液体层于ri与ro之间的温升逐渐增加，-液体层在ro之温升值为δTro，δTro>δTri。如申请专利范围第1项之方法，其中ri与ro之间的温升具有一径向温度曲线图，当δTro及δTri将等于零时，该径向温度曲线图之形状类似径向厚度曲线图形状。如申请专利范围第1或2项之方法，其中加热装置包含一红外线加热装置，其发射IR射线至半径大于ri区域中之基板上，用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第1或2项之方法，其中加热装置包含一热夹头，在旋转期间，基板被固定于其上，该夹头具有一热表面用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第1或2项之方法，其中加热装置包含一热气导流，其发出自一喷嘴，用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第1或2项之方法，其中几个毫米(mm)之基板外圆周区域被一光罩遮蔽以防止在此区域中之液体层受到UV射线照射。如申请专利范围第6项之方法，其中在暴露部分之液体层被照射后，基板被以足够高的旋转频率旋转，将外圆周区域中之非暴露液体自基板实质去除。如申请专利范围第1或2项之方法，其中照射发生在一含有氧气之大气中且发生在留下几微米(μm)液体层上部之照射强度，此区域之液体层藉由氧气抑制而未被凝固。一种使用申请专利范围第8项方法所制造之光学资料储存媒体，其中附加地：-一模板被压入未凝固的液体层上部，-接着上部以射线照射而被凝固，-该模板与完全凝固的液体层上部分离，-其他层被提供用于光学资料储存媒体之最后完成。如申请专利范围第9项之光学资料储存媒体，其中模板对UV射线是透明的且上部被UV射线凝固，该射线被发射通过透明模板。一种用以实施申请专利范围第1或2项方法之装置，其包含：-用以接收一基板及复数个被沉积于该基板上之层之装置，-用以旋转基板之装置，-用以提供透明间隔层与透明覆盖层至少其中之一之装置，其藉由将一液体涂在旋转基板上且进一步旋转基板，用以将液体在内径ri与外径ro之间实质均匀地散开成一层，及-用以在将液体涂在旋转基板上之后将液体层加热之装置，在此方式中，液体层在ri之温升值为δTri，液体层于ri与ro之间的温升逐渐增加，液体层在ro之温升值为δTro，δTro>δTri，-用以在加热步骤之后直接以UV射线照射凝固液体层之装置。如申请专利范围第11项之装置，其中加热装置包含一红外线加热装置，其发射IR射线至半径大于ri区域中之基板上，用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第11项之装置，其中加热装置包含一热夹头，在旋转期间，基板被固定于其上，该夹头具有一热表面用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第11项之装置，其中加热装置包含一热气导流，其发出自一喷嘴，用于在液体层中导致要求的径向温度曲线图。如申请专利范围第1或2项之装置，其中一用于遮蔽几毫米宽基板外圆周区域之光罩出现以防止此区域中之液体层受到UV射线照射。